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产品用途:
此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔
电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。
产品组成:
CVD系统配置:
1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区及双温区)。
2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配有风冷系统。
3.内外双石英管,采用真空可通气氛双法兰特殊连接。
4.多路气体流量控制系统(质子流量控制器和浮子流量控制器)
5.真空系统(可选配中真空或高真空)
产品特点:
产品*性
1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。
2中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵,防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。
3 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动,等程序完成,炉体按设定的速度滑动,因有滑动限位功能,炉体不会发生碰撞,待样品露出炉体后,通过风冷系统快速降温。
4 双管真空密封法兰,反应气体可以在内外管之间发生反应,冷却气体可通过内管,从而使内管外壁温度降低。
系统名称 |
1200℃双管滑动式单/多温区CVD系统 |
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系统型号 |
CVD-12II6SH-3Z/G |
CVD-12III9SH-3Z/G |
极限温度 |
1200℃ |
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加热区长度 |
610mm |
940mm |
恒温区长度 |
400mm |
700mm |
温区 |
双温区 |
三温区 |
石英管管径 |
内管:Φ80mm 外管:Φ100mm |
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额定功率 |
4.8Kw |
7.2Kw |
额定电压 |
220V |
380V(三相) |
滑动距离 |
485mm |
650mm |
滑动方式 |
手动滑动/自动滑动(由温度控制器自动控制移动,当程序完成,炉子按设定的速度滑动) |
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温度控制 |
国产程序控温系统50段程序控温; |
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控制精度 |
±1℃ |
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炉管极限工作温度 |
<1200℃ |
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双管法兰连接 |
采用双法兰双卡箍连接可扩展多功能,并且分别独立对内管和外管进行真空和气体流量控制.密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效,该密封法兰的安装只需在*使用设备的时候安装 |
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气体控制方式 |
质量流量计 |
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气路数量 |
3路(可根据具体需要选配气路数量) |
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流量范围 |
0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定 |
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精度 |
±1%F.S |
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响应时间 |
≤4sec |
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工作温度 |
5-45℃ |
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工作压力 |
进气压力0.05-0.3Mpa(表压力) |
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系统连接方式 |
采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 |
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规格 |
高真空 |
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系统真空范围 |
1x10-3Pa-1x10-1Pa |
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真空泵 |
真空分子泵理论极限真空度 |
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炉体外形尺寸 |
480×770×605mm |
410×1100×605mm |
系统外形尺寸 |
530×1440×750mm(不含高真空) |
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系统总重量 |
340Kg |
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